第136章 開山
2020年9月。
"開山計劃"啟動後的第一周，蘇辰的日程變成了這樣——
早上六點到上午十點，處理飛鳥平台和H-Link 2.0的日常運營。
上午十點到下午三點，與崑山的趙建成、陳國棟、劉國強視頻連線，審核DRIE自研的技術方案。
下午三點到晚上九點，審閱微芯傳感、聯合攻關組、以及各個團隊遞交上來的設計圖紙和實驗數據。
晚上九點以後——
這是蘇辰真正的"工作時間"。
每天晚上九點到凌晨兩點，蘇辰會把自己鎖在辦公室里，啟動產品解析系統的虛擬拆解實驗室。
雖然系統沒有解鎖新的DRIE設計圖，但虛擬拆解實驗室本身就是一個強大的工具——
蘇辰可以在虛擬環境中模擬等離子體的行為，測試不同的刻蝕氣體比例、循環參數、基台溫度對矽片刻蝕效果的影響。
每一次模擬都會被系統記錄，產生詳盡的數據報告。
這些數據，在現實世界中需要花費數十萬乃至數百萬的實驗費用和數周的時間才能獲得。
但在虛擬空間裡，蘇辰一個晚上就能跑上百次模擬。
然後第二天，他會把前一晚的模擬結果整理成"參數建議"，發給趙建成和陳國棟。
在外人看來——蘇辰的行為是難以理解的。
一個沒有等離子體物理背景的企業家，卻能準確地指出哪組參數是對的、哪組參數是錯的。
有時候，陳國棟和劉國強花了三天時間計算出來的一組等離子體刻蝕參數，蘇辰看了一眼就駁回了。
"基台溫度的波動範圍太大。‐40℃到-20℃」這個區間會導致刻蝕輪廓不均勻。把區間收窄到‐35℃到-30℃」，然後重新算一遍。"
陳國棟當時的表情很微妙。
他做DRIE三十年了，對基台溫度和刻蝕輪廓的關係瞭然於胸。但蘇辰給出的那個區間——‐35℃到-30℃」——恰好是他憑經驗估算的最優區間。
一個沒有實操經驗的人，怎麼可能知道這個？
類似的情況一再發生。
蘇辰會在某個真空室的材料選擇上給出意見——"不要用316L不鏽鋼，換成鋁合金。7075-T6就行。強度夠用，而且加工成本低40%。"
趙建成的反應是："鋁合金在高溫等離子體環境下會不會有腐蝕問題？"
蘇辰回覆："我們的刻蝕氣體以SF6為主，對鋁合金的腐蝕性很低。而且我們的真空室工作溫度不會超過200℃，鋁合金完全能承受。"
（由於緩存原因，請用戶直接瀏覽器訪問 追書認準 TW 看書網，𝒔𝒉𝒖.𝒕𝒘超方便 網站，觀看最快的章節更新）
趙建成沉默了。
因為蘇辰說的每一個技術細節都是對的。
他不知道蘇辰是怎麼知道這些的——但事實就是事實。
蘇辰對DRIE的理解，深到了不科學的地步。
最讓陳國棟震驚的是一次關於刻蝕循環的討論。
「開山計劃」採用的是Bosch工藝的改良版——交替進行刻蝕和鋁化，形成深寬比很高的矽通孔。這個工藝的核心難點在於刻蝕和鋁化的循環時間比。
陳國棟和劉國強花了一周時間，終於敲定了一組他們認為最優的循環參數——刻蝕時間5秒，鋁化時間2秒。
蘇辰看了一眼數據，直接說道：
"刻蝕時間縮短到3.5秒，鋁化時間增加到3秒。"
陳國棟的第一反應是不服。
他做了三十年DRIE，對刻蝕和鋁化的時間比有著極為深刻的理解。
"蘇總，3.5秒的刻蝕時間太短了。每個循環的刻蝕深度會不足，導致總循環次數增加，整體效率反而會下降。"
"不會。"蘇辰說，"因為鋁化時間增加到3秒後，側壁保護層會更厚。這意味著每個循環的刻蝕方向性會顯著提升——相當於每個循環的有效刻蝕深度反而增加了。"
"而且，發射功率不變的前提下，縮短刻蝕時間會降低單次刻蝕的熱負荷，減少底部的「草地」綿糞效應。這對深寬比的提升有直接幫助。"
陳國棟盯著蘇辰看了十幾秒。
然後他說了一句："我回去驗證一下。"
三天後，陳國棟在視頻會議中發來了驗證結果。
"蘇總，您說的參數——我用現有設備做了驗證。刻蝕時間3.5秒，鋁化時間3秒——深寬比從20:1提升到了22.5:1。同時側壁光潔度明顯改善。"
他頓了頓：
"我做DRIE三十年，從來沒用過這個參數組合。"
"我想問一下——您是怎麼知道的？"
蘇辰的回答很簡單："直覺。"
陳國棟不信。
但他沒有再問。
因為從那一刻開始——無論蘇辰給出什麼參數建議，陳國棟都會先驗證，再執行。
而每一次驗證的結果，都證明蘇辰是對的。
呸爾。
不科學歸不科學，有用就行。
……
"開山計劃"啟動的第二周，一個意想不到的人出現了。
9月12日，蘇辰收到了一封郵件。
發件人名叫沈志明。
沈志明——這個名字蘇辰知道。
中微半導體的前等離子體刻蝕事業部副總。中國晶片級刻蝕設備的先驅人物之一。
不過蘇辰也知道——沈志明半年前已經離開了中微。正式原因是"個人職業規劃調整"，行業內的說法是——和公司的技術路線有分歧。
更有意思的是——三個月前，在知乎的一個MEMS話題下，沈志明曾經匿名發過一條評論："鴻遠搞MEMS自主化？工藝設備從哪來？國內連一台像樣的DRIE都造不出來，談什麼MEMS自主化？"
這條評論獲得了不少贊。
而現在——這個曾經質疑鴻遠的人，主動發來了郵件。
郵件很長，但核心內容可以濃縮成三句話——
第一，他看到了鴻遠自研DRIE的消息。
第二，他在中微做的是晶片級刻蝕，但對MEMS級刻蝕一直有興趣，這也是他離開中微的原因之一——中微專注於IC刻蝕，不願意分散資源做MEMS刻蝕。
第三，他想加入"開山計劃"。
蘇辰第一時間給沈志明回了電話。
"沈總，我是蘇辰。"
"蘇總，我知道你會打電話過來的。"沈志明的聲音幹練而直接，"我之前在知乎上質疑過鴻遠，這個我不迴避。"
"那現在呢？"
"現在我還是覺得你們搞MEMS自主化很難。"沈志明說，"但DRIE自研這件事——我覺得能成。"
"為什麼？"
"因為我在中微做了八年等離子體刻蝕。IC刻蝕和MEMS刻蝕的原理是相通的——都是等離子體+氣體化學。只不過MEMS刻蝕的深寬比更高，對循環控制的要求更嚴格。"
"而這些——恰好是我最擅長的。"
蘇辰沒有立刻回答。
他在想一件事——沈志明從中微離開，會不會有競業禁止問題？
"你之前和中微有競業協議嗎？"
"有。但競業禁止的範圍是IC刻蝕設備。"沈志明說，"MEMS刻蝕設備不在禁止範圍內——因為中微根本不做MEMS刻蝕。我離開之前專門確認過這一點。"
蘇辰的眼睛亮了一下。
"沈總，你想要什麼？"
"開門見山——我想要一個機會。"沈志明說，"一個從零開始造一台中國DRIE的機會。在中微的時候，我一直想做這件事，但公司不同意。現在我離開了，看到你們在做這件事——我不想錯過。"
"我不需要多高的薪資。但我需要一個承諾——如果DRIE做成了，我要擔任鴻遠刻蝕設備事業部的技術負責人。"
蘇辰沒有猶豫。
"成交。"
"還有一件事。"沈志明說，"我在中微的時候，帶過一個七人的小團隊，專門做等離子體刻蝕設備的研發。其中五個人跟我一起離開了中微。"
"他們都願意來嗎？"
"我說了是去MEMS刻蝕，不是IC刻蝕——五個人里有四個願意。"
蘇辰在心裡迅速算了一筆帳——
沈志明+四名前中微工程師，加上陳國棟、劉國強、周院士派來的兩個博士——
"開山計劃"的團隊，一下子從8人擴充到12人。
更重要的是——沈志明帶來的是中國唯一一支有等離子體刻蝕設備實戰經驗的團隊。
他們在中微搞的是晶片級IC刻蝕，但等離子體控制、真空系統、氣體輸送這些底層技術是相通的。
"沈總，下周一來崑山報到。我讓趙建成接你們。"
"好。"
掛斷電話後，蘇辰的嘴角微微上揚。
沈志明的加入，相當於給"開山計劃"加了一台加速器。
陳國棟有三十年DRIE工藝經驗——他知道矽片想要什麼。
劉國強有中科院863項目的技術儲備——他知道理論邊界在哪裡。
沈志明有八年等離子體刻蝕設備的工程經驗——他知道如何把圖紙變成機器。
三個人，三個維度。
再加上蘇辰自己——那個不講道理的"直覺"。
也許，真的能成。
……
幾乎在同一時間，另一件大事也在推進。
9月15日，蘇州。
微芯傳感67%控股的正式簽約儀式在蘇州工業園區的一家酒店會議室里舉行。
蘇辰、李維、啟明創投的王明輝、以及方旭——四個人坐在桌子的兩側。
簽約的過程很順利。
王明輝的態度和一個月前判若兩人——那時候他還在拒絕67%控股方案。但工信部MEMS重大專項的消息一出，他立刻改變了主意。
因為他看懂了——蘇辰不只是在做一家企業，他在做一個產業。
而一個被國家層面背書的產業——它的回報率遠超一家普通企業。
簽約完成後，王明輝和蘇辰握了握手。
"蘇總，之前的事情我不好意思。當時我確實沒有看清楚局面。"
"王總，商業上的分歧很正常。重要的是最終我們走到了一起。"
王明輝點了點頭。
轉頭看向李維："李博士，啟明創投之前的投資並沒有浪費。你的團隊是微芯最大的財富。現在有了鴻遠的產線和市場支撐，你們可以放開手腳做了。"
李維微微笑了笑："我們當然會放開手腳。"
他轉向蘇辰："蘇總，簽約完成後，微芯傳感的整個團隊將全面融入鴻遠的MEMS體系。我個人的職位怎麼安排，聽您的。"
"李博士，你繼續擔任微芯傳感的CEO，同時出任啟芯MEMS品牌的技術總監。"蘇辰說，"設計端的所有技術決策，以你為主。"
李維點了點頭："明白。我會儘快擬定第一步的詳細技術方案——對標BMI270的全套設計圖，兩周內提交。"
"好。"蘇辰說。
簽約儀式結束後，蘇辰和李維單獨聊了十幾分鐘。
"李博士，我想告訴你一件事。"
"請說。"
"我打算推出MEMS事業群核心團隊期權激勵計劃。"
蘇辰簡要說明了計劃的框架——
從鴻遠智能科技的整體股份中，拿出相當於MEMS事業群營收利潤15%的分紅權，作為核心團隊的激勵。
覆蓋範圍包括設計端（微芯傳感）、製造端（鴻遠微系統）、設備端（開山計劃團隊）三個核心團隊。
激勵條件是——啟芯MEMS品牌的產品進入商用量產階段後，核心團隊成員可以獲得利潤分紅。
"這個計劃的目的很簡單——讓每一個核心成員都覺得，他們不是在打工，而是在創業。"
李維的眼神變了。
"蘇總，這個計劃很有誘惑力。但我想確認一點——您之前承諾的'所有利潤投入MEMS研發'，和這個激勵計劃不矛盾嗎？"
"不矛盾。"蘇辰說，"所有利潤投入MEMS研發——是指飛鳥平台和飛控業務的利潤。而MEMS事業群本身一旦產生利潤——那是它自己的果實。這個果實，應該由創造它的人來分享。"
李維看著蘇辰，沉默了幾秒。
然後他說了一句："蘇總，我在半導體行業做了15年，見過很多老闆。但能說出這種話的——您是第一個。"
蘇辰微微笑了笑："因為我不只是老闆。我是MEMS自主化這場戰爭的士兵。士兵之間，應該同生共死。"
……
"開山計劃"啟動後的第一周，蘇辰的日程變成了這樣——
早上六點到上午十點，處理飛鳥平台和H-Link 2.0的日常運營。
上午十點到下午三點，與崑山的趙建成、陳國棟、劉國強視頻連線，審核DRIE自研的技術方案。
下午三點到晚上九點，審閱微芯傳感、聯合攻關組、以及各個團隊遞交上來的設計圖紙和實驗數據。
晚上九點以後——
這是蘇辰真正的"工作時間"。
每天晚上九點到凌晨兩點，蘇辰會把自己鎖在辦公室里，啟動產品解析系統的虛擬拆解實驗室。
雖然系統沒有解鎖新的DRIE設計圖，但虛擬拆解實驗室本身就是一個強大的工具——
蘇辰可以在虛擬環境中模擬等離子體的行為，測試不同的刻蝕氣體比例、循環參數、基台溫度對矽片刻蝕效果的影響。
每一次模擬都會被系統記錄，產生詳盡的數據報告。
這些數據，在現實世界中需要花費數十萬乃至數百萬的實驗費用和數周的時間才能獲得。
但在虛擬空間裡，蘇辰一個晚上就能跑上百次模擬。
然後第二天，他會把前一晚的模擬結果整理成"參數建議"，發給趙建成和陳國棟。
在外人看來——蘇辰的行為是難以理解的。
一個沒有等離子體物理背景的企業家，卻能準確地指出哪組參數是對的、哪組參數是錯的。
有時候，陳國棟和劉國強花了三天時間計算出來的一組等離子體刻蝕參數，蘇辰看了一眼就駁回了。
"基台溫度的波動範圍太大。‐40℃到-20℃」這個區間會導致刻蝕輪廓不均勻。把區間收窄到‐35℃到-30℃」，然後重新算一遍。"
陳國棟當時的表情很微妙。
他做DRIE三十年了，對基台溫度和刻蝕輪廓的關係瞭然於胸。但蘇辰給出的那個區間——‐35℃到-30℃」——恰好是他憑經驗估算的最優區間。
一個沒有實操經驗的人，怎麼可能知道這個？
類似的情況一再發生。
蘇辰會在某個真空室的材料選擇上給出意見——"不要用316L不鏽鋼，換成鋁合金。7075-T6就行。強度夠用，而且加工成本低40%。"
趙建成的反應是："鋁合金在高溫等離子體環境下會不會有腐蝕問題？"
蘇辰回覆："我們的刻蝕氣體以SF6為主，對鋁合金的腐蝕性很低。而且我們的真空室工作溫度不會超過200℃，鋁合金完全能承受。"
（由於緩存原因，請用戶直接瀏覽器訪問 追書認準 TW 看書網，𝒔𝒉𝒖.𝒕𝒘超方便 網站，觀看最快的章節更新）
趙建成沉默了。
因為蘇辰說的每一個技術細節都是對的。
他不知道蘇辰是怎麼知道這些的——但事實就是事實。
蘇辰對DRIE的理解，深到了不科學的地步。
最讓陳國棟震驚的是一次關於刻蝕循環的討論。
「開山計劃」採用的是Bosch工藝的改良版——交替進行刻蝕和鋁化，形成深寬比很高的矽通孔。這個工藝的核心難點在於刻蝕和鋁化的循環時間比。
陳國棟和劉國強花了一周時間，終於敲定了一組他們認為最優的循環參數——刻蝕時間5秒，鋁化時間2秒。
蘇辰看了一眼數據，直接說道：
"刻蝕時間縮短到3.5秒，鋁化時間增加到3秒。"
陳國棟的第一反應是不服。
他做了三十年DRIE，對刻蝕和鋁化的時間比有著極為深刻的理解。
"蘇總，3.5秒的刻蝕時間太短了。每個循環的刻蝕深度會不足，導致總循環次數增加，整體效率反而會下降。"
"不會。"蘇辰說，"因為鋁化時間增加到3秒後，側壁保護層會更厚。這意味著每個循環的刻蝕方向性會顯著提升——相當於每個循環的有效刻蝕深度反而增加了。"
"而且，發射功率不變的前提下，縮短刻蝕時間會降低單次刻蝕的熱負荷，減少底部的「草地」綿糞效應。這對深寬比的提升有直接幫助。"
陳國棟盯著蘇辰看了十幾秒。
然後他說了一句："我回去驗證一下。"
三天後，陳國棟在視頻會議中發來了驗證結果。
"蘇總，您說的參數——我用現有設備做了驗證。刻蝕時間3.5秒，鋁化時間3秒——深寬比從20:1提升到了22.5:1。同時側壁光潔度明顯改善。"
他頓了頓：
"我做DRIE三十年，從來沒用過這個參數組合。"
"我想問一下——您是怎麼知道的？"
蘇辰的回答很簡單："直覺。"
陳國棟不信。
但他沒有再問。
因為從那一刻開始——無論蘇辰給出什麼參數建議，陳國棟都會先驗證，再執行。
而每一次驗證的結果，都證明蘇辰是對的。
呸爾。
不科學歸不科學，有用就行。
……
"開山計劃"啟動的第二周，一個意想不到的人出現了。
9月12日，蘇辰收到了一封郵件。
發件人名叫沈志明。
沈志明——這個名字蘇辰知道。
中微半導體的前等離子體刻蝕事業部副總。中國晶片級刻蝕設備的先驅人物之一。
不過蘇辰也知道——沈志明半年前已經離開了中微。正式原因是"個人職業規劃調整"，行業內的說法是——和公司的技術路線有分歧。
更有意思的是——三個月前，在知乎的一個MEMS話題下，沈志明曾經匿名發過一條評論："鴻遠搞MEMS自主化？工藝設備從哪來？國內連一台像樣的DRIE都造不出來，談什麼MEMS自主化？"
這條評論獲得了不少贊。
而現在——這個曾經質疑鴻遠的人，主動發來了郵件。
郵件很長，但核心內容可以濃縮成三句話——
第一，他看到了鴻遠自研DRIE的消息。
第二，他在中微做的是晶片級刻蝕，但對MEMS級刻蝕一直有興趣，這也是他離開中微的原因之一——中微專注於IC刻蝕，不願意分散資源做MEMS刻蝕。
第三，他想加入"開山計劃"。
蘇辰第一時間給沈志明回了電話。
"沈總，我是蘇辰。"
"蘇總，我知道你會打電話過來的。"沈志明的聲音幹練而直接，"我之前在知乎上質疑過鴻遠，這個我不迴避。"
"那現在呢？"
"現在我還是覺得你們搞MEMS自主化很難。"沈志明說，"但DRIE自研這件事——我覺得能成。"
"為什麼？"
"因為我在中微做了八年等離子體刻蝕。IC刻蝕和MEMS刻蝕的原理是相通的——都是等離子體+氣體化學。只不過MEMS刻蝕的深寬比更高，對循環控制的要求更嚴格。"
"而這些——恰好是我最擅長的。"
蘇辰沒有立刻回答。
他在想一件事——沈志明從中微離開，會不會有競業禁止問題？
"你之前和中微有競業協議嗎？"
"有。但競業禁止的範圍是IC刻蝕設備。"沈志明說，"MEMS刻蝕設備不在禁止範圍內——因為中微根本不做MEMS刻蝕。我離開之前專門確認過這一點。"
蘇辰的眼睛亮了一下。
"沈總，你想要什麼？"
"開門見山——我想要一個機會。"沈志明說，"一個從零開始造一台中國DRIE的機會。在中微的時候，我一直想做這件事，但公司不同意。現在我離開了，看到你們在做這件事——我不想錯過。"
"我不需要多高的薪資。但我需要一個承諾——如果DRIE做成了，我要擔任鴻遠刻蝕設備事業部的技術負責人。"
蘇辰沒有猶豫。
"成交。"
"還有一件事。"沈志明說，"我在中微的時候，帶過一個七人的小團隊，專門做等離子體刻蝕設備的研發。其中五個人跟我一起離開了中微。"
"他們都願意來嗎？"
"我說了是去MEMS刻蝕，不是IC刻蝕——五個人里有四個願意。"
蘇辰在心裡迅速算了一筆帳——
沈志明+四名前中微工程師，加上陳國棟、劉國強、周院士派來的兩個博士——
"開山計劃"的團隊，一下子從8人擴充到12人。
更重要的是——沈志明帶來的是中國唯一一支有等離子體刻蝕設備實戰經驗的團隊。
他們在中微搞的是晶片級IC刻蝕，但等離子體控制、真空系統、氣體輸送這些底層技術是相通的。
"沈總，下周一來崑山報到。我讓趙建成接你們。"
"好。"
掛斷電話後，蘇辰的嘴角微微上揚。
沈志明的加入，相當於給"開山計劃"加了一台加速器。
陳國棟有三十年DRIE工藝經驗——他知道矽片想要什麼。
劉國強有中科院863項目的技術儲備——他知道理論邊界在哪裡。
沈志明有八年等離子體刻蝕設備的工程經驗——他知道如何把圖紙變成機器。
三個人，三個維度。
再加上蘇辰自己——那個不講道理的"直覺"。
也許，真的能成。
……
幾乎在同一時間，另一件大事也在推進。
9月15日，蘇州。
微芯傳感67%控股的正式簽約儀式在蘇州工業園區的一家酒店會議室里舉行。
蘇辰、李維、啟明創投的王明輝、以及方旭——四個人坐在桌子的兩側。
簽約的過程很順利。
王明輝的態度和一個月前判若兩人——那時候他還在拒絕67%控股方案。但工信部MEMS重大專項的消息一出，他立刻改變了主意。
因為他看懂了——蘇辰不只是在做一家企業，他在做一個產業。
而一個被國家層面背書的產業——它的回報率遠超一家普通企業。
簽約完成後，王明輝和蘇辰握了握手。
"蘇總，之前的事情我不好意思。當時我確實沒有看清楚局面。"
"王總，商業上的分歧很正常。重要的是最終我們走到了一起。"
王明輝點了點頭。
轉頭看向李維："李博士，啟明創投之前的投資並沒有浪費。你的團隊是微芯最大的財富。現在有了鴻遠的產線和市場支撐，你們可以放開手腳做了。"
李維微微笑了笑："我們當然會放開手腳。"
他轉向蘇辰："蘇總，簽約完成後，微芯傳感的整個團隊將全面融入鴻遠的MEMS體系。我個人的職位怎麼安排，聽您的。"
"李博士，你繼續擔任微芯傳感的CEO，同時出任啟芯MEMS品牌的技術總監。"蘇辰說，"設計端的所有技術決策，以你為主。"
李維點了點頭："明白。我會儘快擬定第一步的詳細技術方案——對標BMI270的全套設計圖，兩周內提交。"
"好。"蘇辰說。
簽約儀式結束後，蘇辰和李維單獨聊了十幾分鐘。
"李博士，我想告訴你一件事。"
"請說。"
"我打算推出MEMS事業群核心團隊期權激勵計劃。"
蘇辰簡要說明了計劃的框架——
從鴻遠智能科技的整體股份中，拿出相當於MEMS事業群營收利潤15%的分紅權，作為核心團隊的激勵。
覆蓋範圍包括設計端（微芯傳感）、製造端（鴻遠微系統）、設備端（開山計劃團隊）三個核心團隊。
激勵條件是——啟芯MEMS品牌的產品進入商用量產階段後，核心團隊成員可以獲得利潤分紅。
"這個計劃的目的很簡單——讓每一個核心成員都覺得，他們不是在打工，而是在創業。"
李維的眼神變了。
"蘇總，這個計劃很有誘惑力。但我想確認一點——您之前承諾的'所有利潤投入MEMS研發'，和這個激勵計劃不矛盾嗎？"
"不矛盾。"蘇辰說，"所有利潤投入MEMS研發——是指飛鳥平台和飛控業務的利潤。而MEMS事業群本身一旦產生利潤——那是它自己的果實。這個果實，應該由創造它的人來分享。"
李維看著蘇辰，沉默了幾秒。
然後他說了一句："蘇總，我在半導體行業做了15年，見過很多老闆。但能說出這種話的——您是第一個。"
蘇辰微微笑了笑："因為我不只是老闆。我是MEMS自主化這場戰爭的士兵。士兵之間，應該同生共死。"
……